Processo 001748-26

Forno para cura térmica de poliimida, com capacidade de processar lâminas de carbeto de silício (SiC), conforme as especificações a seguir: • Capacidade de processamento igual ou superior a 200 lâminas de carbeto de silício (SiC) de 150 mm. • Temperatura de operação igual ou superior a 400°C. • Resolução de ajuste de temperatura de 0,1 °C ou superior (≤ 0,1 °C). • Câmara interna com limpeza classe 100 ou superior. • Operação com purga em atmosfera de nitrogênio (N₂). • Concentração de oxigênio (O2) residual na câmara durante a operação igual ou inferior a 20 ppm. • Analisador de oxigênio (O₂) residual. • Armadilha fria (cold trap) instalada. • Alimentação elétrica compatível com as instalações da Ceitec (480 V, 3P+N+E, 60 Hz).

CLH-35CD(Ⅲ)-S